رونمایی از دستگاه نانولیتوگرافی با قدرت تفکیک 20 نانومتر
سیناپرس: گروه صنعتی ای‌وی (EV Group) یکی از پیشروان تولیدکننده ویفر و تجهیزات لیتوگرافی برای استفاده در بازار فناوری نانو، MEMS و نیمه‌هادی است. این گروه اخیراً فرآیند لیتوگرافی نانوچاپ جدید خود را با نام تجاری SmartNILTM رونمایی کرده است.
این محصول جدید می‌تواند با هزینه کم و حجم بالا در حوزه‌های زیر مورد استفاده قرار گیرد:
• ادوات فتونیک نظیر LED، لیزر و ادوات فتوولتائیک
• میکرو آرایه‌ها و نانوادوات بخش پزشکی و مهندسی زیستی
• ادوات ذخیره‌سازی اطلاعات نظیر حافظه‌های غیرفرار (NVM)
پاول لیندنر از مدیران گروه صنعتی ای‌وی می‌گوید: « SmartNIL براساس 15 سال تجربه، طراحی و ساخته شده است. این دستگاه بزرگترین سیستم نانولیتوگرافی نصب شده در جهان بوده و تنها دستگاهی است که می‌تواند روی زیرلایه‌های 200 میلیمتری لیتوگرافی کند. قدرت تفکیک الگوهای ایجاد شده با این روش 20 نانومتر است که می‌تواند این الگوها را روی زیرلایه‌های بزرگ با شکل هندسی پیچیده ایجاد کند.»
از مزایای این روش جدید می‌توان به موارد ذیل اشاره کرد:
این ابزار می‌تواند برای ساخت ادوات فتونیک نظیر LEDها، دیودهای لیزری، حسگرهای نوری که در آن‌ها به دستکاری نور در مقیاس نانو نیاز است، مورد استفاده قرار گیرد. برای این کار، ساختارهای نانومقیاسی نظیر بلورهای فتونیک، جوانه‌ها یا ساختارهای انتقال دهنده موج روی سطح ایجاد می‌شود.
از آنجایی که بیشتر فرآیندهای زیستی در مقیاس نانو اتفاق می‌افتد، این دستگاه می‌تواند در ساخت ابزارهای زیست‌مهندسی استفاده شود.
این دستگاه در حوزه‌هایی که لازم است نانوالگوهایی روی سطح ایجاد شود اما حجم تولید اندک بوده و استفاده از روش‌هایی نظیر نگارش با پرتو الکترونی مقرون به صرفه نیست، بسیار مفید است.
برخی از ویژگی‌های SmartNIL به شرح ذیل است:
• امکان چاپ در حجم‌های بالا (تا 200 میلیمتر)
• تولید انبوه با سرعت بیش از 40 زیرلایه در هر ساعت ( برای زیرلایه‌های 200 میلیمتری)
• الگودهی در دمای اتاق که موجب می‌شود اثرات ناخواسته حاصل از دمای بالا به حداقل برسد
• افزایش طول عمر استامپ مورد استفاده در این ابزار
به گزارش ستاد ویژه توسعه فناوری نانو، وجود خاصیت خودتمیز شوندگی که موجب کاهش آلودگی ذرات شده و در نهایت کیفیت چاپ را بهبود می‌دهد.
No tags for this post.
