تشکیل کنسرسیومی برای توسعه محافظ‌های نانویی در برابر تداخل امواج الکترومغناطیس
با پیوستن شرکت گرافت پلیمر به یک کنسرسیوم اروپایی، قرار است از نوآوری‌های نانویی این شرکت برای توسعه محصولاتی به منظور مقابله با تداخل الکترومغناطیس استفاده شود.
به گزارش سیناپرس به نقل از ستاد توسعه نانو، شرکت بریتانیایی گرافت پلیمر (Graft Polymer) به کنسرسیومی به رهبری موسسه علوم هسته‌ای وینکا پیوست. این همکاری در رابطه با پروژه‌ای به نام GrinShield Project Twinning program است که در قالب این پروژه قرار است کامپوزیت‌های جدید مبتنی بر گرافن به منظور محافظت از تداخل الکترومغناطیسی توسعه یابد. این پیشگامی با حمایت تیم‌های فرانسوی، آلمانی و اسلوونیایی، در پاسخ به تقاضای رو به رشد برای موادی که می‌توانند اثرات امواج الکترومغناطیسی (EWs) را کاهش دهند، شکل گرفته است.
گرافت پلیمر امولسیون‌های گرافنی موسوم به GRAFTALLOY MP-UHMWPE و NANO را وارد این پروژه خواهد کرد. این مواد توسط مؤسسه علوم هسته‌ای وینکا تحت آزمایش‌های دقیقی قرار می‌گیرند و قرار است در سال ۲۰۲۵ این پروژه تکمیل شود.
ویکتور بولدویف، بنیان‌گذار و مدیرعامل گرافت پلیمر، اظهار داشت: «این توافق‌نامه موئد نوآوری محصول ما و قابلیت‌های تحقیق و توسعه شرکت گرافت پلیمر است. این همکاری مشترک به ما کمک می‌کند تا برنامه‌های توسعه‌ای خود را با موفقیت جلو ببریم.»
پروفسور سنزانا پاجوئیک به نمایندگی از موسسه وینکا می‌گوید: «موقعیت و مزیت رقابتی گرافت پلیمر در نوآوری و تولید محصولات منحصر به فرد در بازار پلیمرها واقعاً چشمگیر است و ما مشتاقانه منتظر همکاری با آنها در این پروژه محوری هستیم.»
No tags for this post.
