عرضه دستگاه لایه‌نشانی، مناسب برای تولید تراشه‌های حافظه

شرکت لام ریسرچ (Lam Research) یکی از تولیدکنندگان تجهیزات نیمه‌هادی اعلام کرد که اخیرا یک دستگاه لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد لایه‌های نازک از جنس تنگستن حاوی فلئور تولید کرده است. این دستگاه نسل جدیدی از فناوری ALTUS است.
این دستگاه لایه‌نشانی، اولین ابزار ALD بوده که می‌تواند لایه‌هایی از تنگستن با مقدار فلئور کم تولید کند، چیزی که برای تولیدکنندگان حافظه و تراشه بسیار ضروری است. این دستگاه به شرکت‌های فعال در حوزه نیمه‌هادی کمک می‌کند تا ادوات 3D Nano و DRAM تولید کنند.
این دستگاه جدید به دلیل قابلیت‌هایی که دارد می‌تواند موقعیت مناسبی در صنعت تولید حافظه بدست آورد و تولیدکنندگان و بخش تحقیق و توسعه شرکت‌ها از آن استفاده کنند.
تیم آرچر از محققان این شرکت می‌گوید: « تقاضای مشتریان برای ادوات قدرتمندتر در حال افزایش است. آنها به دنبال افزایش ظرفیت و عملکرد بهتر هستند. اچ کردن و لایه‌نشانی از عناصر کلیدی این فرآیند محسوب می‌شود که برای تولیدکنندگان حافظه و تراشه حیاتی هستند. با این ابزار جدید، مشتریان ما می‌توانند نسل جدیدی از محصولات را تولید کنند. در 12 ماه گذشته، فناوری 3D Nano به سرعت رشد کرده است. نرخ فروش ما دو برابر شده‌است و اغلب مشتریان ما از بازار 3D Nano هستند.»
به گزارش ستاد توسعه فناوری نانو،با افزایش تعداد لایه‌های سلول حافظه در 3D Nano، دو مسئله بوجود می‌آید. اول این که نفوذ فلئور از فیلم تنگستن به لایه دی‌الکتریک اتفاق می‌افتد که موجب نقص فیزیکی می‌شود. دوم این که استرس زیادی روی دستگاه ایجاد می‌شود که این موضوع نیز موجب نقص عملکردی می‌شود.
این فناوری جدید موجب کاهش مقدار فلئور و استرس در ساختار حافظه می‌شود. سیشا واراداراجان از مدیران شرکت دپوزیشن پروداکت می‌گوید: « با کاهش ابعاد تراشه‌های حافظه به سوی نودهای کوچکتر، نیازهای جدید ایجاد می‌شود که برای رفع آنها باید از فناوری‌های جدید استفاده کرد و دستگاه ALD می‌تواند با کاهش فلئور و مقاومت در ساختار، به تولید محصولاتی با کارایی بالاتر کمک کند.»

No tags for this post.

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *

دکمه بازگشت به بالا