ارائه تولید مستقیم نانوحفره با قطر کمتر از ۱۰ نانومتر

دانشمندان روشی جدید برای ساخت مستقیم نانوحفره زیر ۱۰ نانومتر در نانوورق‌های WO۳ ارائه کردند. این دستاورد با استفاده از یون‌های سنگین و سریع انجام می‌شود.

این مطالعه توسط دانشمندان در مرکز تحقیقات مواد انستیتوی فیزیک مدرن (IMP) آکادمی علوم چین (CAS) با همکاری انستیتوی مشترک تحقیقات هسته‌ای، روسیه انجام شده است.

ساخت نانوحفره‌های حالت جامد با کیفیت بالا برای کاربردهای تشخیص مولکول منفرد، دستگاه‌های نانوفلوئیدی و غشاهای نانوالتر از اهمیت زیادی برخوردار است. محبوب‌ترین روش برای ساخت نانوحفره در فیلم‌های معدنی مانند SiN، SiO۲ و Al۲O۳ استفاده از یون یا پرتو الکترونی متمرکز است.

با این حال، سیستم بازخورد یا تصویربرداری مستقیم مورد نیاز است و با این کار فقط یک نانوحفره واحد را می‌توان در یک زمان ساخت، که تولید انبوه را محدود می‌کند. بنابراین، لازم است که روش جدیدی ابداع شود که می‌تواند نانوحفره‌های قابل کنترل از نظر اندازه و چگالی ایجاد کند، بدون این که به هیچ‌گونه سیستم بازخوردی نیاز باشد.

با استفاده از امکانات مرکز تحقیقاتی یون سنگین در لانژو (HIRFL)، دانشمندان از تابش یون‌های سنگین سریع، برای تولید نانوحفره روی WO۳ استفاده کردند.

علاوه بر این، آنها از شبیه‌سازی دینامیک مولکولی برای توضیح مکانیسم اساسی این فرآیند استفاده کردند. مشخص شد که ویسکوزیته و تنش سطحی فاز مذاب گذرا ناشی از عبور یون‌های سنگین سریع از جمله عوامل موثر در تولید این نانوحفره‌ها است.

براساس گزارش ستاد ویژه فناوری نانو، دانشمندان با انتخاب یون‌های مختلف، نانوحفره‌هایی با اندازه ۱٫۸ تا ۷٫۴ نانومتر در نانوورق‌های WO۳ ایجاد کردند. آنها می‌توانند با کنترل تعداد یون‌های عبوری، چگالی نانوحفره‌ها را کنترل کنند.

این روش جدید تولید نانوحفره، که شامل هیچ فرآیند اچینگ شیمیایی نیست، ظرفیت ویژه‌ای برای کاربردهای گسترده دارد. این کار راه را برای ساخت نانوذرات حالت جامد در مواد با ویسکوزیته کم و تنش سطحی با استفاده از یون‌های سنگین سریع هموار می‌کند.

No tags for this post.