کنسرسیومی برای صنعتی کردن خازن‌های مجتمع به کمک فناوری‌نانو
دو سال بعد از راه‌اندازی پروژه PICS که توسط برنامه چارچوبی اتحادیه اروپا برای حمایت از شرکت‌های کوچک و متوسط کارآفرین راه‌اندازی شده، سه شرکت کارآفرین اروپایی، IPDiA، Picoscu و SENTECH به همراه چند موسسه مختلف اعلام کردند که موفق به دستاوردهایی در این برنامه شده‌اند.
برنامه PICS که در سال 2013 آغاز شده‌است روی توسعه مواد دی‌الکتریک نوین که با استفاده از لایه‌نشانی اتمی (ALD) بدست می‌آید متمرکز است. یکی از اهداف این برنامه، وارد کردن ابزارهای جدید لایه‌نشانی اتمی به مسیر تولید انبوه و ساخت خازن‌های سه‌بعدی با ولتاژ بالا است که کاربردهای متعددی در صنعت هوافضا و پزشکی دارد.
خازن‌ها بخش کلیدی ماژول‌های الکترونیکی هستند. فناوری خازن‌های سیلیکونی مجتمع که توسط شرکت IPDiA تولید می‌شوند دارای مقاومت بالایی در برابر حرارت، ولتاژ، خستگی بوده و می‌توان با استفاده از آنها ماژول‌های الکترونیکی با عملکرد بالا تولید کرد.
این کنسرسیوم موفق به دستیابی به سه نتیجه قابل توجه شده‌است:
اول این که ابزار ALD جدیدی توسط Picosun و Frauhofer IPMS-CNT طراحی و ساخته شده‌است. این ابزار می‌تواند هزینه انجام کار را کاهش داده و محصولی یکنواخت ارائه کند. با این ابزار امکان تولید دی‌الکتریک‌های با ضریب K بالا برای استفاده در ساختارهای سه‌بعدی فراهم می‌شود. طراحی و ساخت این ابزار موقعیت شرکت Picosun را در بازار تثبیت می‌کند.
دومین دستاورد این کنسرسیوم، ارائه روشی جدید برای اچ دقیق دی‌الکتریک‌های با K بالا است که توسط شرکت SENTECH ارائه شده‌است. این روش پتانسیل کسب سهم زیادی از بازار در حوزه مواد با K بالا را داراست که کاربردهای متعددی در ساخت LED، MEMS و ادوات ذخیره‌سازی اطلاعات دارد.
دو ماده دی‌الکتریک جدیدی نیز توسط این کنسرسیوم تولید شده‌است. با این مواد امکان رسیدن به دانسیته ظرفیت بالاتر از 500 Nf/mm2 در 3.3 ولت فراهم می‌شود که یک رکورد محسوب می‌شود.
به گزارش ستاد توسعه فناوری نانو،در کنار این نتایج، هدف بزرگ این کنسرسیوم، صنعتی کردن فناوری خازن‌های مجتمع است که با همکاری مشترک میان چند شرکت و سازمان مختلف این امر به نتیجه رسیده است.
شرکت‌ها و مراکزی که در این کنسرسیوم همکاری داشتند در حوزه فناوری‌نانو تخصص و تجربه بالایی دارند.
