افزایش کارایی پیل خورشیدی تا 27 درصد

شرکت سوئدی سول ولتائیکس (Sol Voltaics) اعلام کرد که 5/12 میلیون دلار سرمایه‌گذاری روی فناوری نانوسیم آرسنید گالیم انجام خواهد داد. این شرکت تلاش دارد تا فناوری خورشیدی کاملاً جدیدی را تجاری‌سازی کند. در این فناوری از نانوسیم‌های آرسنید گالیم استفاده شده که طولی در حدود 1 تا 2 میکرون داشته و قطری 100 نانومتری دارند.
این فناوری همانند جوهر روی یک سطح قرار گرفته و لایه جاذب را روی پیل خورشیدی ایجاد می‌کند. این لایه قادر است با کارایی بالا نور را جذب کند؛ پدیده‌ای که به آن فتوولتائیک تغلیظ شده موجی (WCPV) گفته می‌شود.
نتایج آزمون‌های انجام شده روی این پیل‌های فتوولتائیک نشان می‌دهد که کارایی پیل‌های خورشیدی بعد از افزودن این فناوری بیش از 27 درصد است. در واقع پیل‌های سیلیکونی بلوری از کارایی 17 درصدی برخوردار هستند، اما با افزودن نانوسیم، کارایی آن‌ها به 22 درصد می‌رسد.
این سرمایه‌گذاری توسط شرکت سرمایه‌گذاری ریاده ولی (Riyadh Valley) انجام شده‌است که یک بازوی سرمایه‌گذاری خطرپذیر دانشگاه شاه سعود عربستان است. در حال حاضر دو شرکت اومه (Umeo)، اینداستریفوندن (Industrifonden) و نانوفیوچر (Nano Future) در این شرکت سرمایه‌گذاری کرده‌اند.
سول ولتائیکس از فرآیندی استفاده می‌کند که توسط لار سامئلسون ابداع شده‌است؛ کسی که یکی از بنیان‌گذاران این شرکت است. 
براساس اطلاعات منتشر شده توسط این شرکت، نانوسیم‌ها و نانولوله‌ها از طریق روشی موسوم به فرآیند اپیتاکسیال تولید می‌شود. این نانوساختارها به صورت بلوری در فشار و دمای کم روی سطح سیلیکون یا یاقوت رشد می‌کنند. معمولاً روش ایپتاکسیال به دلیل محدودیت‌هایش نیاز به زمان و هزینه بالایی برای تولید نانوساختارها دارد اما در این روش، محققان با استفاده از محیط گازی، این فرآیند را به‌صورت کنترل شده و با دقت بالا انجام دادند.